對于芯片代工廠商來說：光刻機是不可或缺的，如果沒有光刻機對芯片進行曝光印章，刻蝕機將無法對芯片進行雕刻，芯片也將無法生產。除了光刻機外，離子注入機也很重要。在芯片進行曝光生產之前，如果沒有離子注入機對硅片進行摻雜，芯片的電路集成規格、晶體管集成度將會大幅降低。

先給大家科普一下什么是離子注入機。離子注入機在芯片制造過程中主要負責對芯片進行電離子改造，按照預訂方式改變材料的電性能。在光刻機對芯片進行曝光生產前，離子注入機對硅片進行不同元素摻雜，能夠提高芯片的集成度、良品率和壽命。簡單來說，離子注入機在芯片制程中起到了優化硅片、提高芯片性能的作用。

一直以來，我國的半導體廠商使用的離子注入機都是來自國外。拋去成本營收不說，長期依賴國外的技術設備，顯然不利于我國半導體行業的發展。更何況現如今是在美國高強度打壓我國半導體發展的背景下。
針對此類現狀，中國電科潛心專研，成功擊碎國外技術壁壘，推出了可供28納米及28納米以上制程芯片使用的離子注入機。值得一提的是：中國電科推出的28納米離子注入機，剛好可以搭配上海微電子的28納米光刻機，加速我們實現芯片完全自主化生產目標的腳步。

令人振奮的是：有關離子注入機的核心技術和相關設備生產方面，中國電科實現了28納米及28納米以上制程的全譜系國產化。也就是說，在有關28納米、28納米以上制程的離子注入機的相關零部件生產上，我們不用擔心會被國外“卡脖子”。
雖說與國外的離子注入機相比，我們在該方面還處在比較落后的位置。但總的來說：中國電科擊碎國外壟斷推出的28納米離子注入機，對于我們發展半導體行業起著重要作用。有了它，我們可以大幅度提高28納米及28納米以上制程芯片的良品率，提高我們在芯片代工領域中的競爭力。

況且除了手機、電腦等高端智能設備，目前大部分的半導體儀器對于芯片制程的要求還停留在28納米以上，例如當下缺芯最嚴重的智能汽車領域。順時代者，昌也。在汽車行業嚴重缺芯的大背景下，中國電科推出的28納米離子注入機，不僅可以彌補我們在芯片代工設備上的不足，也會為我國代工行業的營收增長，增添一份力量。

我國對半導體行業代工領域的重視，促使很多代工廠商加快研發。目前我們在芯片代工領域中已經取得了許多突破。在有關芯片代工設備的前沿技術上，中科院實現了5納米激光雕刻技術的應用，推出了5納米掩膜版。中微公司推出5納米制程的刻蝕機，在實際應用中獲得了三星、臺積電的訂單。清華、哈工大團隊破冰EUV光源壁壘，推出了與ASML公司同等水平的EUV光源。
有志者，事竟成。針對我們在半導體領域被核心技術“卡脖子”的現狀。我國成立了“全國集成電路委員會”，隨著越來越多“有志之士”的加入，相信過不了多久，困擾我國半導體發展的代工設備難題，將會迎刃而解。